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真空狀態下的分散和研磨

發布於:2018-09-20
相關標簽: 超細研磨設備

真空分散工藝多用於多氣泡物料和易揮發性溶劑較多的工藝中,通過抽真空使物料在真空中的容器內分散,減少氣泡和溶劑的揮發,也可以在高粘度物料的分散過程中減少分散過程中氣泡的產生。

VMA在滿足真空分散需要上采用了兩種不同的設計工藝。

CDS真空分散係統

CDS真空分散係統屬於額外的附加模塊,可以附加到現有的bob10上,適用於小量的真空分散使用。

CDS真空分散係統能夠在真空下封閉係統中的單壁容器中進行分散過程。單壁容器能夠放置在容器托座中並進行固定。如果分散過程需要冷卻,也可以使用雙壁容器托座。在加入液體和粉末後,可以將玻璃蓋降低到容器托座的真空軸導管上。現在可以開始進行分散,並令產品做急速自由翻滾運動。如果需要真空狀態,可以使用真空泵。即使在真空條件下做分散,分散盤高度也可以很容易地升高或降低。可以通過大玻璃罩清楚地觀察到分散全過程。所有的CDS係統都可使用單壁或雙壁(用於溫度控製)。

全新設計的創新型CDS真空係統,首次允許使用集成的刮刀係統來分散高粘度產品。CDS係統適用許多DISPERMAT®分散裝置,還配備了一個超亮的LED室內照明以及紅外溫度測量


CDS真空分散演示

1單壁容器固定在雙壁容器內, 粉末狀成分攪拌到液體成分中。

CDS真空分散演示

2混合液體和粉末狀成分後,蓋上玻璃蓋,並在真空狀態下進行分散。

CDS真空分散演示

3.隨著磨料被正確投入到滾軸中, 產生湍流自由運動 (圓環效應)。實驗室用分散機 DISPERMAT®取得的結果可以很好地轉化到生產工作中。

整機真空分散

除了模塊化小量分散的CDS分散應用係統,VMA分散機還提供了整機的分散應用主要型號為LH和VL兩個係列。

整機分散應用在使用時不需要附加額外的分散模塊,適用於大中量的物料分散使用,分散過程全程可控。更適合於研發使用和試生產使用。

真空分散機

真空分散機

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